Terobosan Besar China: Prototipe EUV Lokal Berhasil Dikembangkan, Jalan Menuju Produksi Chip 2nm Terbuka

Industri semikonduktor China kembali menjadi sorotan global setelah dilaporkan berhasil mengembangkan prototipe mesin litografi extreme ultraviolet (EUV) buatan dalam negeri. Pencapaian ini menandai tonggak penting dalam upaya Beijing mengejar swasembada teknologi chip canggih, sekaligus mengurangi ketergantungan pada teknologi Barat di tengah ketatnya pembatasan ekspor.

Menurut laporan Reuters, prototipe mesin EUV tersebut dikembangkan di sebuah fasilitas riset berkeamanan tinggi di Shenzhen dan telah rampung pada awal 2025. Mesin ini diklaim mampu menghasilkan cahaya ultraviolet ekstrem, komponen kunci dalam proses manufaktur chip berukuran nanometer kecil yang selama ini hanya dikuasai segelintir perusahaan global.

Sebagai konteks, teknologi EUV merupakan jantung dari produksi chip mutakhir, mulai dari node 5 nanometer, 3 nanometer, hingga 2 nanometer. Selama bertahun-tahun, pasar mesin EUV praktis dimonopoli oleh ASML, perusahaan asal Belanda yang menjadi pemasok tunggal bagi raksasa chip dunia seperti TSMC, Samsung, dan Intel.

Namun demikian, China selama ini berada di luar lingkaran tersebut. Pembatasan ekspor dari Amerika Serikat dan negara-negara sekutunya secara tegas melarang ASML menjual mesin EUV ke perusahaan China. Akibatnya, Beijing terpaksa mengambil jalur yang jauh lebih sulit, yakni mengembangkan teknologi EUV secara mandiri melalui riset jangka panjang dan pendekatan rekayasa balik.

Masih menurut Reuters, pengembangan prototipe EUV China melibatkan ribuan peneliti, insinyur, serta mahasiswa teknik dari berbagai institusi. Menariknya, sebagian dari tim tersebut disebut-sebut merupakan mantan insinyur ASML yang direkrut secara diam-diam dengan tawaran kompensasi tinggi. Langkah ini dinilai mempercepat penguasaan teknologi inti yang selama ini dianggap nyaris mustahil ditembus.

Meski begitu, capaian ini belum sepenuhnya sempurna. Prototipe mesin EUV tersebut dilaporkan masih menggunakan sejumlah komponen lama buatan ASML. Selain itu, mesin ini juga belum mampu memproduksi chip yang benar-benar berfungsi secara komersial. Saat ini, pengujian masih dilakukan secara internal dan belum diarahkan untuk produksi massal dalam waktu dekat.

Kendati demikian, kemajuan ini tetap mengejutkan banyak pengamat industri. Pasalnya, pada April 2025 lalu, CEO ASML Christophe Fouquet sempat menyatakan bahwa China membutuhkan waktu “bertahun-tahun” untuk bisa mengembangkan teknologi EUV secara mandiri. Kemunculan prototipe ini menunjukkan bahwa jarak teknologi tersebut mungkin tidak sejauh yang diperkirakan sebelumnya.

Reuters juga melaporkan bahwa pemerintah China menargetkan produksi chip berfungsi menggunakan mesin EUV lokal pada 2028. Namun, sejumlah sumber industri menilai target yang lebih realistis berada di kisaran 2030, mengingat kompleksitas teknologi dan tantangan produksi yang masih harus diatasi.

Dorong Ambisi Chip 2nm

Keberhasilan mengembangkan prototipe EUV ini sekaligus memperkuat ambisi China untuk masuk ke era produksi chip 2 nanometer. Foundry terbesar China, SMIC, disebut tengah mempersiapkan fondasi teknologi menuju node yang lebih kecil, setelah sebelumnya mengembangkan proses N+3 yang diklaim mendekati 5 nanometer, meski dengan berbagai keterbatasan efisiensi.

Selain itu, lonjakan permintaan chip akibat ledakan teknologi kecerdasan buatan (AI) juga menjadi faktor pendorong utama. Perusahaan teknologi seperti Huawei terus berupaya mengamankan pasokan chip domestik dengan membangun jaringan pabrik baru serta memperdalam kerja sama strategis dengan SMIC.

Meski dinilai sebagai langkah maju yang sangat signifikan, para ahli menegaskan bahwa tantangan besar masih menghadang. Mulai dari efisiensi mesin, stabilitas sumber cahaya EUV, tingkat keberhasilan produksi atau yield, hingga kemampuan memproduksi chip dalam volume besar secara konsisten masih menjadi pekerjaan rumah yang tidak sederhana.

Di sisi lain, detail teknis terkait cara kerja mesin EUV buatan China termasuk spesifikasi sumber cahaya dan tingkat presisi optik hingga kini masih sangat terbatas dan belum dibuka ke publik. Hal ini membuat banyak pihak menunggu pembuktian lebih lanjut di tahap produksi nyata.

Meski demikian, terobosan ini mencerminkan paradoks dari sanksi teknologi Barat. Alih-alih menghentikan laju perkembangan, pembatasan justru memicu mobilisasi nasional China menuju kemandirian teknologi. Jika mesin EUV lokal ini berhasil dikembangkan hingga tahap produksi massal, peta persaingan industri semikonduktor global berpotensi berubah signifikan dalam satu dekade ke depan.